发明名称 |
液压致裂模拟器中前沿跟踪的方法、装置和程序存储设备 |
摘要 |
一种适于连续更新压裂印迹的周边的方法、系统和程序存储设备,该压裂印迹是当压裂液压裂由井筒穿透的地层时在地球地层中形成的。适于存储在计算机系统的存储器中的流体体积(VOF)软件的两个实施例,当由计算机系统的处理器执行该软件时,将对压裂的发展期间的压裂周边的位置进行定位。该两个实施例称作‘标志VOF(MVOF)’和‘全VOF(FVOF)’软件,将通过更新每个尖端微元的填充分率来连续更新压裂印迹的周边。MVOF软件将使用填充分率质量平衡积分方程来更新每个尖端微元的填充分率,而FVOF软件将使用流体流动方程的积分形式来更新每个尖端微元的填充分率。 |
申请公布号 |
CN1690359B |
申请公布日期 |
2010.12.15 |
申请号 |
CN200510067001.9 |
申请日期 |
2005.04.26 |
申请人 |
施蓝姆伯格技术公司 |
发明人 |
埃杜阿德·西布里茨;安东尼·皮尔斯 |
分类号 |
E21B43/26(2006.01)I;G06F17/50(2006.01)I |
主分类号 |
E21B43/26(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
黄小临;王志森 |
主权项 |
1.一种连续更新压裂印迹的周边的方法,所述压裂印迹具有多个尖端微元,所述方法包括下述步骤:(a)通过使用下面的方程式更新所述多个尖端微元的每个尖端微元的填充分率:<img file="FSB00000213100700011.GIF" wi="1048" he="129" />其中,w<sub>k</sub>为时刻t<sub>K</sub>的压裂宽度,w<sub>k+1</sub>为时刻t<sub>K+1</sub>的压裂宽度,F<sub>k</sub>为时刻t<sub>K</sub>的填充分率,<img file="FSB00000213100700012.GIF" wi="105" he="59" />为时刻t<sub>K+1</sub>与迭代(j+1)的填充分率,Δt<sub>k</sub>为时刻t<sub>K</sub>的时间步,<img file="FSB00000213100700013.GIF" wi="286" he="57" />为在可能被部分填充的尖端微元e上的积分衰退或漏泄项,<img file="FSB00000213100700014.GIF" wi="32" he="52" />为流体首先进入尖端微元e的触发时间,t为当前时间,A<sub>e</sub>为矩形尖端微元e的面积。 |
地址 |
荷兰海牙 |