发明名称 一种硫卤微晶玻璃红外光学元件的热压成型制备方法
摘要 本发明涉及一种硫卤微晶玻璃红外光学元件的热压成型制备方法,其特征在于:Ge-Ga-Se-CsI红外透射硫卤玻璃被直接采用热压成型的方法,在成型的过程中,玻璃内形成大量分布均匀的微晶,从而获得机械性能较好的硫卤微晶玻璃红外光学元件。此方法可适用于硫系和硫卤微晶玻璃红外光学元件的制备,有利于产品质量的控制和降低成本。
申请公布号 CN101148319B 申请公布日期 2010.12.15
申请号 CN200710045988.3 申请日期 2007.09.14
申请人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明人 杨志勇;陈玮;罗澜;唐高
分类号 C03C3/32(2006.01)I;C03C10/02(2006.01)I;C03B11/00(2006.01)I 主分类号 C03C3/32(2006.01)I
代理机构 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人 潘振甦
主权项 一种硫卤微晶玻璃红外光学元件的热压成型方法,其特征在于制备方法包括A、B两部分;A硒基硫卤玻璃的制备(1)将Ge、Ga、Se元素和CsI按(100 x y z)Ge xGa ySe zCsI,其中,5≤x≤30,45≤y≤65,1≤z≤20的配比装入经脱羟基预处理的石英安瓿中;(2)抽真空至石英安瓿内真空度≤10 2Pa,火焰封接;(3)将步骤(2)的石英安瓿放入摇摆炉中,缓慢升温至850 900℃保温后取出,置于室温水中淬冷;所述的缓慢升温的速率为0.2~2℃/min;(4)然后在280 340℃保温,退火处理,制得硒基硫卤玻璃;B硒基硫卤微晶玻璃红外光学元件的热压成型制备将步骤A制得的硫卤玻璃片,制作成需要尺寸的玻璃片,置于模具中,施加1~4×104Pa压力,缓慢加热至高于玻璃软化温度10 30℃进行热压成型,所述的缓慢加热升温速率为0.5~4℃/min。
地址 200050 上海市长宁区定西路1295号