发明名称 馏出物喷射式真空蒸馏工艺
摘要 本发明涉及一种适用于化工物料在中、低真空条件下蒸馏的真空形成技术,旨在提供一种适用于乙醇胺生产中反应产物的真空蒸馏脱水。本发明中馏出物喷射式真空蒸馏技术是利用真空蒸馏塔的馏出物作为喷射介质,将其射过液力真空泵,以成为真空蒸馏塔的真空源。本发明的有益效果是:馏出物和喷射介质是同一种物质,可以完全不考虑馏出物进入喷射介质会带来什么问题。特别是用乙醇胺反应产物真空蒸脱出带少量氨的水作喷射泵的喷射介质时,更是比较合适的。这时馏出物稀氨水全部进入喷射介质,可以返回反应系统而仍保持水的平衡。
申请公布号 CN101219286B 申请公布日期 2010.12.15
申请号 CN200710071487.2 申请日期 2007.09.29
申请人 吴兆立;曾曼华 发明人 吴兆立
分类号 B01D3/10(2006.01)I;C07C213/10(2006.01)I 主分类号 B01D3/10(2006.01)I
代理机构 杭州中成专利事务所有限公司 33212 代理人 唐银益
主权项 一种馏出物喷射式真空蒸馏工艺,其特征在于,利用真空蒸馏塔的馏出物作为喷射介质,将其射过液力真空泵,以成为真空蒸馏塔的真空源;所述真空蒸馏塔的真空源的绝压为50~500mmHg。
地址 310030 浙江省杭州市西湖区西溪路596号西湖广电中心大楼4楼