| 发明名称 | 至少一个光学元件的清洁方法和装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种至少一个照射设备的至少一个光学元件的清洁方法，该照射设备在一个真空室中具有至少一个产生尤其是强紫外线和/或软x射线的辐射源，其射线通过该光学元件引到一个待处理的工件上，由于通过该辐射源带入的无机物质，该光学元件至少部分地被污染。为此，建议将至少一种对射线(118)基本上透光或透明的反应组分(124)根据当前的反应条件通过一个供料装置(126)输入，该反应组分与沉积物(128)起化学反应，从而将其从光学元件(110)上去除掉。 | ||
| 申请公布号 | CN1791793B | 申请公布日期 | 2010.12.15 |
| 申请号 | CN200480013804.X | 申请日期 | 2004.05.18 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | P·辛克;J·潘克特;G·德拉;A·维伯 |
| 分类号 | B08B3/08(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 原绍辉;赵辛 |
| 主权项 | 至少一个照射设备(112)的至少一个光学元件(110；43)的清洁方法，该照射设备在一个真空室(114)中具有至少一个产生强紫外线和/或软X射线的辐射源(116)，其射线(118)通过光学元件(110)传到一个待处理的工件(120)上，其中光学元件(110)至少部分地由于通过辐射源(116)带入的一种无机物质(122)而被污染，其特征为，至少一种对射线(118)基本上透光或透明的反应组分(124)根据当前的反应条件通过一个供料装置(126)输入，该反应组分与污染沉积物(128)起化学反应，从而把沉积物从光学元件(110)上去除掉，其中反应组分(124)相对于无机物质(122)带入量和/或相对于沉积物(128)过量供入或者反应组分(124)以一个相对于无机物质(122)和/或相对于沉积物(128)的化学当量的比率通过一个计量装置(132)加入。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||