| 发明名称 | 组合式处理系统 | ||
| 摘要 | 提供了一种组合式处理腔室。此组合式处理腔室用以隔绝可旋式基板支撑物的径向部分，而此基板支撑物转用以支撑一基板。在一实施方式中，此腔室包括多个丛集制程机头。在一实施方式中，具有底板的插件针对沉积制程定义一限制区域，其底板设置于此基板支撑物与此制程机头之间。此底板具有一开口，以使沉积材料能进入至此基板。经由此基板的转动与此开口的移动，此基板的多重区域易于用以在单一基板上执行组合式处理。 | ||
| 申请公布号 | CN101919027A | 申请公布日期 | 2010.12.15 |
| 申请号 | CN200880113968.8 | 申请日期 | 2008.09.05 |
| 申请人 | 分子间公司 | 发明人 | 里克·恩多;库尔特·魏纳;因德拉尼尔·德;詹姆士·宗;赵茂生;杰里米·程 |
| 分类号 | H01L21/20(2006.01)I;H01L21/44(2006.01)I;C23C16/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人 | 李冬梅;郑霞 |
| 主权项 | 一种组合式处理腔室，包括：多个沉积机头，其绕着第一轴线丛集，该多个沉积机头固定于一可旋式组件，而该可旋式组件绕着第二轴线转动；可旋式基板支撑物，其绕着第三轴线转动；及底板，其具有暴露所述基板支撑物的一部分的孔隙，其中，所述孔隙与所述第一轴线对齐。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||