发明名称 计算加热区域的温度变化的方法和装置
摘要 本发明公开了一种计算加热区域的温度变化的方法,用于磁共振监控的高强度聚焦超声HIFU治疗,该方法包括:对HIFU治疗头在两个或两个以上位置时生成的参考像进行插值,得到HIFU治疗头移动位置的参考像;根据所述HIFU治疗头移动位置的插值参考像的相位图和HIFU治疗头在该位置时生成的加热图像计算加热区域的温度变化。本发明还公开了一种计算加热区域的温度变化的装置,该装置包括参考像插值单元和温度计算单元。使用了本发明的方法和装置,能够显著减小HIFU治疗头的移动中由于磁化率的变化导致的温度误差,既能得到准确的加热区域的温度变化,同时减小HIFU治疗中操作的复杂程度和治疗时间。
申请公布号 CN101273889B 申请公布日期 2010.12.15
申请号 CN200710064912.5 申请日期 2007.03.29
申请人 西门子(中国)有限公司 发明人 周晓东;戴勇鸣
分类号 A61B5/055(2006.01)I;A61N7/00(2006.01)I;G01R33/48(2006.01)I;G06T5/00(2006.01)I 主分类号 A61B5/055(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种计算加热区域的温度变化的方法,用于磁共振监控的高强度聚焦超声HIFU治疗,其特征在于,包括:对HIFU治疗头在两个以上位置时生成的参考像进行插值,得到HIFU治疗头移动位置的参考像的相位图;根据所述HIFU治疗头移动位置的参考像的相位图和HIFU治疗头在该位置时生成的加热图像计算加热区域的温度变化;其中,所述根据HIFU治疗头移动位置的参考像的相位图和HIFU治疗头在该位置时生成的加热图像计算加热区域的温度变化包括:按照下式计算加热区域的温度变化:Tmap=(Φx Φ_rx)/(γ·α·BO·TE),其中Tmap为所述HIFU治疗头在移动位置上加热区域的温度变化图,Φx为所述HIFU治疗头在移动位置时生成的加热图像的相位图,Φ_rx为所述计算出的HIFU治疗头在移动位置时的参考像的相位图,γ为质子的旋磁比,α为水中质子的温度频率系数,B0为静磁场强度,TE为回波时间。
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