发明名称 |
计算加热区域的温度变化的方法和装置 |
摘要 |
本发明公开了一种计算加热区域的温度变化的方法,用于磁共振监控的高强度聚焦超声HIFU治疗,该方法包括:对HIFU治疗头在两个或两个以上位置时生成的参考像进行插值,得到HIFU治疗头移动位置的参考像;根据所述HIFU治疗头移动位置的插值参考像的相位图和HIFU治疗头在该位置时生成的加热图像计算加热区域的温度变化。本发明还公开了一种计算加热区域的温度变化的装置,该装置包括参考像插值单元和温度计算单元。使用了本发明的方法和装置,能够显著减小HIFU治疗头的移动中由于磁化率的变化导致的温度误差,既能得到准确的加热区域的温度变化,同时减小HIFU治疗中操作的复杂程度和治疗时间。 |
申请公布号 |
CN101273889B |
申请公布日期 |
2010.12.15 |
申请号 |
CN200710064912.5 |
申请日期 |
2007.03.29 |
申请人 |
西门子(中国)有限公司 |
发明人 |
周晓东;戴勇鸣 |
分类号 |
A61B5/055(2006.01)I;A61N7/00(2006.01)I;G01R33/48(2006.01)I;G06T5/00(2006.01)I |
主分类号 |
A61B5/055(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种计算加热区域的温度变化的方法,用于磁共振监控的高强度聚焦超声HIFU治疗,其特征在于,包括:对HIFU治疗头在两个以上位置时生成的参考像进行插值,得到HIFU治疗头移动位置的参考像的相位图;根据所述HIFU治疗头移动位置的参考像的相位图和HIFU治疗头在该位置时生成的加热图像计算加热区域的温度变化;其中,所述根据HIFU治疗头移动位置的参考像的相位图和HIFU治疗头在该位置时生成的加热图像计算加热区域的温度变化包括:按照下式计算加热区域的温度变化:Tmap=(Φx Φ_rx)/(γ·α·BO·TE),其中Tmap为所述HIFU治疗头在移动位置上加热区域的温度变化图,Φx为所述HIFU治疗头在移动位置时生成的加热图像的相位图,Φ_rx为所述计算出的HIFU治疗头在移动位置时的参考像的相位图,γ为质子的旋磁比,α为水中质子的温度频率系数,B0为静磁场强度,TE为回波时间。 |
地址 |
100102 北京市朝阳区望京中环南路7号 |