发明名称 |
一种有效避免闩锁效应的可控硅ESD保护结构 |
摘要 |
本发明公开了一种有效避免闩锁效应的可控硅ESD保护结构,所述有效避免闩锁效应的可控硅ESD保护结构包括可控硅器件以及与所述可控硅器件相连的控制电路,所述控制电路控制所述可控硅器件的通断,由于所述控制电路的控制作用,使得所述可控硅器件在静电泄放完毕后能及时关闭,有效地避免了可控硅器件的闩锁效应,从而避免了半导体芯片的损坏。 |
申请公布号 |
CN101916760A |
申请公布日期 |
2010.12.15 |
申请号 |
CN201010187380.6 |
申请日期 |
2010.05.28 |
申请人 |
上海宏力半导体制造有限公司 |
发明人 |
胡剑 |
分类号 |
H01L27/04(2006.01)I;H01L23/60(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/04(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
郑玮 |
主权项 |
一种有效避免闩锁效应的可控硅ESD保护结构,其特征在于,包括可控硅器件以及与所述可控硅器件相连的控制电路,所述控制电路控制所述可控硅器件的通断。 |
地址 |
201203 上海市张江高科技园区郭守敬路818号 |