发明名称 一种有效避免闩锁效应的可控硅ESD保护结构
摘要 本发明公开了一种有效避免闩锁效应的可控硅ESD保护结构,所述有效避免闩锁效应的可控硅ESD保护结构包括可控硅器件以及与所述可控硅器件相连的控制电路,所述控制电路控制所述可控硅器件的通断,由于所述控制电路的控制作用,使得所述可控硅器件在静电泄放完毕后能及时关闭,有效地避免了可控硅器件的闩锁效应,从而避免了半导体芯片的损坏。
申请公布号 CN101916760A 申请公布日期 2010.12.15
申请号 CN201010187380.6 申请日期 2010.05.28
申请人 上海宏力半导体制造有限公司 发明人 胡剑
分类号 H01L27/04(2006.01)I;H01L23/60(2006.01)I 主分类号 H01L27/04(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 郑玮
主权项 一种有效避免闩锁效应的可控硅ESD保护结构,其特征在于,包括可控硅器件以及与所述可控硅器件相连的控制电路,所述控制电路控制所述可控硅器件的通断。
地址 201203 上海市张江高科技园区郭守敬路818号