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发明名称 TECHNIQUES FOR ETCHING A LOW CAPACITANCE DIELECTRIC LAYER
摘要
申请公布号 EP1186014(B1) 申请公布日期 2010.12.15
申请号 EP20000930416 申请日期 2000.05.04
申请人 LAM RESEARCH CORPORATION 发明人 MOREY, IAN, J.;ELLINGBOE, SUSAN;FLANNER, JANET, M.;JANOWIAK, CHRISTINE, M.;LANG, JOHN
分类号 H01L21/3065;H01L21/28;H01L21/311;H01L21/302;H01L21/768 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
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