| 发明名称 | 一种水基中性清洗剂及其在GGH换热组件清洗中的应用 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种水基中性的清洗剂，尤其是用于清洗GGH换热组件，克服了传统机械清洗和酸碱化学清洗的缺陷。对搪瓷元件及烟道材料安全无腐蚀，清洗速度快、效率高；清洗工艺方便简单。将有机羧酸酸盐、有机磷酸盐、还原剂、助洗剂按一定比例复配成的中性清洗剂，其质量百分比组成为：有机羧酸盐20.0～40.0％；有机磷酸盐1.4～8.0％；还原剂0.5～2.0；助洗剂0～1.0，水49.0～78.1％，混合溶液呈中性。 | ||
| 申请公布号 | CN101914416A | 申请公布日期 | 2010.12.15 |
| 申请号 | CN201010125326.9 | 申请日期 | 2010.03.16 |
| 申请人 | 上海立昌环境工程有限公司 | 发明人 | 常立;王天仁;林健;谢爱军;芦洪涛 |
| 分类号 | C11D7/36(2006.01)I;C11D7/26(2006.01)I;C11D7/32(2006.01)I;C11D7/10(2006.01)I | 主分类号 | C11D7/36(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 一种水基中性清洗剂，其特征在于由有机羧酸盐、有机膦酸盐、还原剂、助洗剂组成，其质量百分比组成为：有机羧酸盐20.0～40.0％；有机膦酸盐1.4～8.0％；还原剂0.5～2.0；助洗剂0～1.0，水49.0～78.1％。 | ||
| 地址 | 200135 上海市浦东新区浦东大道2000号阳光世界9F | ||