| 发明名称 | 电子级多晶硅生产中提纯三氯氢硅气相直进还原系统及工艺 | ||
| 摘要 | 本发明涉及电子级多晶硅生产中提纯三氯氢硅气相直进还原系统及工艺，气相高纯三氯氢硅从提纯产品塔(2)塔釜通过气相采出设备(5)，依次经过液体导流部件(12)、一级除雾器(11)和二级除雾器(9)除去气相中夹带的液相三氯氢硅，直接采出高纯气相三氯氢硅，通过气体输送系统(8)进入还原系统(7)生产多晶硅，在高纯三氯氢硅气体输送系统(8)设有温度控制系统(6)，使气相三氯氢硅温度可控。本发明可有效去除气相中夹带的液相三氯氢硅。在伴热系统管内设有静态混合器组件，可避免气体受热不均现象，气体输送管道通过温度控制系统控制管道内气体的过热度。本发明可使系统能耗降低30％，获得电子级多晶硅产品。 | ||
| 申请公布号 | CN101913607A | 申请公布日期 | 2010.12.15 |
| 申请号 | CN201010251725.X | 申请日期 | 2010.08.12 |
| 申请人 | 天津大学 | 发明人 | 黄国强;王红星;华超;郑艳梅 |
| 分类号 | C01B33/03(2006.01)I | 主分类号 | C01B33/03(2006.01)I |
| 代理机构 | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人 | 王丽 |
| 主权项 | 一种精馏提纯三氯氢硅产品气相直接进还原系统，包括提纯产品塔(2)、三氯氢硅气相采出设备(5)、温度控制系统(6)和还原系统(7)；其特征是在提纯产品塔(2)和还原系统(7)之间设置有三氯氢硅气相采出设备(5)和温度控制系统(6)。 | ||
| 地址 | 300072 天津市南开区卫津路92号天津大学 | ||