发明名称 用于存在性检测的薄膜检测器
摘要 提供了一种换能器(800),其中隔膜(830)在前衬底(615)上形成;并且压电层(820)在隔膜(830)上的活性部分(821)和位于活性部分(821)邻近的外围部分处形成。此外,提供了后衬底结构,其具有位于邻近活性部分(821)的外围部分处的支撑物(822,824)。支撑物(822,824)的高度(826)大于图案化压电层和图案化导电层的组合高度(828)。可以连接许多换能器以形成阵列,其中可以提供控制器,其用于控制该阵列(例如操纵该阵列的束、处理该阵列接收的信号),用于例如存在性或运动检测和/或成像。
申请公布号 CN101919079A 申请公布日期 2010.12.15
申请号 CN200880023261.8 申请日期 2008.06.30
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 M·克利;K·赖曼;B·K·斯里达兰奈尔;R·P·A·德尔诺伊;H·M·J·布茨;C·A·本德斯;O·武尼克;D·里夫曼;P·德克森;R·德克;H·范埃希;M·德威尔德;R·莫西奥克;C·范希施;W·F·帕斯维尔;E·J·克尼贝;R·A·H·布里恩
分类号 H01L41/22(2006.01)I;B06B1/06(2006.01)I 主分类号 H01L41/22(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 刘鹏;谭祐祥
主权项 一种形成换能器(800)的方法,包括以下动作:在前衬底(615)上形成隔膜(830);在隔膜(830)上形成压电层(820);在压电层(820)的活性部分(821)上形成包括第一和第二电极(840,845)的图案化导电层;以及形成具有位于活性部分(821)的相邻侧上的支撑物(822,824)的后衬底结构。
地址 荷兰艾恩德霍芬