发明名称 Inspection Apparatus for Lithography
摘要 An illuminator configured to create a radiation beam for the metrology of a substrate surface includes an arc lamp, a parabolic reflector (150), a double cone (160) and a fly's eye integrator (110) in order to create a homogenized beam with a parabolic distribution.
申请公布号 US2010302521(A1) 申请公布日期 2010.12.02
申请号 US20080746071 申请日期 2008.12.01
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 KUIPER JOHANNES MARIA
分类号 G03B27/54;G01J3/00;G01N21/55 主分类号 G03B27/54
代理机构 代理人
主权项
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