| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Referenzkörpers für quantitative Röntgenfluoreszenzuntersuchungen an Substraten und einen mit dem Verfahren hergestellten Referenzkörper. Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren für die Herstellung von Referenzkörpern für Röntgenfluoreszenzuntersuchungen an Substraten, die mit Fremdelementen kontaminiert sein können, anzugeben, mit dem die Genauigkeit erhöht werden kann. Die Referenzkörper können mit mindestens einem Fremdelement kontaminiert sein, wobei auf einer Oberfläche des Referenzkörpers eine atomare Oberflächenbelegung mindestens eines chemischen Elementes mit einer Belegungsdichte kleiner als eine Atomlage vorhanden ist. Bei der Herstellung wird ein Target, das mit einer Beschichtung versehen ist, in der das/die chemische Element(e) mit einer bekannten Belegungsdichte und ein weiteres chemisches Element oder eine chemische Verbindung dieses chemischen Elements enthalten sind, mit einer gepulsten Strahlung innerhalb einer Vakuumkammer beaufschlagt, so dass eine Ablation der Beschichtung an der Oberfläche des Targets auf einer Fläche mit einer Größe Aerfolgt und auf einer Teiloberfläche des in Bezug zur bestrahlten Oberfläche des Targets angeordneten Referenzkörpers auf einer Fläche A, die größer als die Fläche Aist, eine Belegung mit reduzierter Belegungsdichte des/der chemischen Element(e)s durch Abscheidung aus der Dampfphase ausgebildet wird. |
