发明名称 Messung eines Substrats mit elektrisch leitenden Strukturen
摘要 Die Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zur Messung eines Substrats (1) mit elektrisch leitenden Strukturen (2, 3). Um eine solche Messung zu verbessern, wird vorgeschlagen, dass die Vorrichtung einen Messsensor (4) und Mittel (5) zur gesteuerten Bewegung des Messsensors (4) relativ zum Substrat (1) aufweist, wobei die Vorrichtung Mittel (6, 7) zur gleichzeitigen Einspeisung mehrerer unterschiedlicher elektrischer Signale in die elektrisch leitenden Strukturen (2, 3) aufweist, wobei der Messsensor (4) zur Messung von durch die elektrischen Signale erzeugten Feldern mittels Feldkopplung vorgesehen ist, wobei die Vorrichtung Mittel (8, 9, 10) zur Auswertung der gemessenen Felder und zur Bestimmung von Eigenschaften der elektrisch leitenden Strukturen (2, 3) auf Basis der Auswertung der gemessenen Felder aufweist.
申请公布号 DE102009022965(A1) 申请公布日期 2010.12.02
申请号 DE200910022965 申请日期 2009.05.28
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 SCHICK, ANTON;KOERDEL, MARTIN;ALATAS, FATIH
分类号 G01R31/312 主分类号 G01R31/312
代理机构 代理人
主权项
地址