| 主权项 |
一种包含通式(1)之重覆单元的聚合物：@sIMGTIF!d10026.TIF@eIMG!其中R1及R2各为氢或甲基，当n＝1时，R3是C1－C12伸烷基，或者当n＝2时，R3是C1－C12亚烷基，其具有直链、支链或环状结构体，R4是具有直链、支链或环状结构体的C1－C12伸烷基，R5是C1－C12伸烷基，下标符号a,b1及b2是位于以下范围内的数字：0<a<1,0@sIMGCHAR!d10070.TIF@eIMG!b1<1,0@sIMGCHAR!d10071.TIF@eIMG!b2<1,0<b1＋b2<1,0<a＋b1＋b2@sIMGCHAR!d10072.TIF@eIMG!1.0，且n等于1或2。一种光阻保护性涂覆材料，其包含如申请专利范围第1项之聚合物。一种用以形成图案的浸润式微影方法，其包含在晶圆上形成光阻层、以光阻覆盖材料在光阻层上形成保护性涂层，以波长为180至250 nm的光线经投射镜将层状结构体施以曝光，同时在投射镜与晶圆间维持一含水液体等步骤，其中该光阻覆盖材料是如申请专利范围第2项之光阻保护性涂覆材料。如申请专利范围第3项之形成图案的方法，其另外包含在曝光后，实施后曝光焙烤，继而以硷性水实施显影之步骤，该显影步骤系用以将光阻层实施显影并同时剥除由光阻覆盖材料所形成的保护性涂层。 |
