| 发明名称 | 旋成膜二次喷射金属雾化装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种旋成膜二次喷射金属雾化装置。它包括一个输入液体金属射流供给部，与输入液体金属射流中心同中心设置一个环形雾化组合喷嘴，环形雾化组合喷嘴的下方设置一个旋转的冲击平台；所述环形雾化组合喷嘴有上游喷口和下游喷口，所述上游喷口平喷射气流方向呈向下离心方向，从而冲击输入金属射流冲击到冲击平台形成的旋成膜，实现成膜破碎；所述下游喷口喷射气流方向呈向下中心方向而与上游喷口喷射气流方向成有效交叉角度，从而冲击成膜破碎的液体金属颗粒，实现二次破碎。采用本发明可获得更好的雾化效果和更细的金属液滴和粉末。 | ||
| 申请公布号 | CN101376172B | 申请公布日期 | 2010.12.01 |
| 申请号 | CN200810200298.5 | 申请日期 | 2008.09.24 |
| 申请人 | 上海大学 | 发明人 | 王志亮 |
| 分类号 | B22F9/08(2006.01)I | 主分类号 | B22F9/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人 | 何文欣 |
| 主权项 | 一种旋成膜二次喷射金属雾化装置，包括一个输入液体金属射流(3)供给部，其特征在于与输入液体金属射流(3)中心同中心设置一个环形雾化组合喷嘴(1)，环形雾化组合喷嘴(1)的下方设置一个旋转的冲击平台(6)；所述环形雾化组合喷嘴(1)有上游喷口(4)和下游喷口(5)，所述上游喷口(4)喷射气流方向呈向下离心方向，从而冲击输入金属射流(3)冲击到冲击平台(6)形成的旋成膜，实现成膜破碎；所述下游喷口(5)喷射气流方向呈向下中心方向而与上游喷口(4)喷射气流方向成有效交叉角度，从而冲击成膜破碎的液体金属颗粒，实现二次破碎。 | ||
| 地址 | 200444 上海市宝山区上大路99号 | ||