发明名称 |
用于叶栅内流的等离子体激励控制系统及控制方法 |
摘要 |
一种用于叶栅内流的等离子体激励控制系统及控制方法,是在计算机控制下进行的,通过在叶栅吸力面不同位置施加适当强度的等离子体激励,一方面可以起到抑制叶栅吸力面流动分离的作用,另一方面可以改善叶栅尾迹区的流动状态,起到减小流动损失的作用。 |
申请公布号 |
CN101666343B |
申请公布日期 |
2010.12.01 |
申请号 |
CN200810119578.3 |
申请日期 |
2008.09.03 |
申请人 |
中国科学院工程热物理研究所 |
发明人 |
李钢;朱俊强;聂超群;徐燕骥 |
分类号 |
F15D1/00(2006.01)I;F04D29/26(2006.01)I;F04D29/00(2006.01)I;G05B19/04(2006.01)I;G05D16/20(2006.01)I |
主分类号 |
F15D1/00(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
周长兴 |
主权项 |
一种用于叶栅内流的等离子体激励控制系统,其包括:多个等离子体激励器,每一个等离子体激励器均是在一绝缘材料的两侧面非对称地各设置一金属电极;其中一金属电极嵌在绝缘材料中,另一金属电极裸露在空气中;各等离子体激励器分散地设置在叶栅的吸力面上,且各等离子体激励器嵌在绝缘材料中的金属电极一面朝向叶栅的吸力面;各等离子体激励器的两个金属电极分别连接一高压高频电源;在该高压高频电源的作用下,各等离子体激励器嵌在绝缘材料中的金属电极上方生成等离子体,并通过等离子体与中性气体分子的碰撞向叶栅边界层输送能量,使叶栅周围空气形成静流量为零的水平方向射流,加速叶栅附面层内的气流流动;叶栅支撑固定在叶栅端壁内,该叶栅端壁将压缩气体封闭在通道内;叶栅的吸力面上安置有壁面静压测量装置,以测量叶栅不同位置处的吸力面表面静压,进而判断是否发生流动分离;叶栅的吸力面上设置有壁面测温装置,以测量壁面温度;高压高频电源、壁面静压测量装置以及壁面测温装置均由一中央处理器控制。 |
地址 |
100080 北京市北四环西路11号 |