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一种测量接触角装置，用以测量液体对一基板的接触角，该测量接触角装置包含：一检测平台，用以承载该基板；一滑轨，设置于该检测平台之周围；一移动平台，设置于该滑轨上，且可沿该滑轨移动；一进样器，设置于该移动平台上，用以提供一液滴滴于该检测平台所承载之基板上；一影像撷取元件，设置于该移动平台上，用以撷取该液滴滴于该基板上之影像；以及一分析装置，连接该影像撷取元件，用以依据该影像计算该液滴相对于该基板之接触角。如申请专利范围第1项所述之测量接触角装置，更包含：至少一滑轮，设于该移动平台之底部，且安装于该滑轨上。如申请专利范围第1项所述之测量接触角装置，更包含：至少一定位件，设于该移动平台之侧边，并位于该滑轨上方，该定位件包含一螺孔及一螺杆，该螺杆设于该螺孔中，且抵接该滑轨使该移动平台固定于该滑轨上。如申请专利范围第1项所述之测量接触角装置，更包含：一第一移动结构，设置于该移动平台上，使该进样器利用该第一移动结构相对于该移动平台作横向运动。如申请专利范围第4项所述之测量接触角装置，其中该移动平台设有一滑槽，该第一移动结构包含一滑块，该滑块设于该滑槽。如申请专利范围第5项所述之测量接触角装置，其中该移动平台设有一定位件，该定位件系包含一定位槽，该第一移动结构包含一螺杆，该螺杆设于该定位槽中。如申请专利范围第6项所述之测量接触角装置，其中该第一移动结构包括一螺孔，其相对该螺杆设置，该第一移动结构系藉由该螺杆与螺孔的相对运动而移动。如申请专利范围第4项所述之测量接触角装置，更包含：一第二移动结构，设置于该第一移动结构上，使该进样器利用该第二移动结构相对于该第一移动结构作纵向运动。如申请专利范围第8项所述之测量接触角装置，其中该第一移动结构系设有一滑槽，该第二移动结构包含一滑块，该滑块对应设于该滑槽。如申请专利范围第9项所述之测量接触角装置，其中该第一移动结构系包含一定位件，该定位件包含一定位槽，该第二移动结构包含一螺杆，该螺杆设于该定位槽中。如申请专利范围第10项所述之测量接触角装置，其中该第二移动结构包含一螺孔，相对该螺杆设置，该第二移动结构系藉由该螺杆与该螺孔的相对运动而移动。如申请专利范围第8项所述之测量接触角装置，更包含：一第三移动结构，设置于该第二移动结构上，使该进样器利用该第三移动结构相对于该第二移动结构作垂直方向运动。如申请专利范围第12项所述之测量接触角装置，其中该第三移动结构系包含：一第一楔形块，设置于该第二移动结构上；及一第二楔形块，设置于该第一楔形块上。如申请专利范围第13项所述之测量接触角装置，其中该第二移动结构系包含一滑槽，该第一楔形块包含一滑块，该滑块设于该滑槽。如申请专利范围第14项所述之测量接触角装置，其中该第二移动结构包含一定位件，该定位件包含一定位槽，该第一楔形块包含一螺杆，该螺杆设于该定位槽中。如申请专利范围第15项所述之测量接触角装置，其中该第一楔形块包含一螺孔，系相对该螺杆设置，该第一楔形块系藉由该螺杆与该螺孔的相对运动而移动进而驱动该第二楔形块相对于该第二移动结构作垂直方向运动。如申请专利范围第1项所述之测量接触角装置，更包括一移动结构，设于该移动平台上，使该进样器利用该移动结构相对于该移动平台作纵向及/或垂直方向运动。 |
