发明名称 绝缘导热金属基板的制造方法
摘要 本发明提供一种绝缘导热金属基板的制造方法,其包括以下步骤:提供一金属基材并将其配置于一腔体内;于该腔体内形成接近真空状态;将惰性气体通入该腔体中;启动溅镀不锈钢靶材,进行离子冲击并植入不锈钢;关闭不锈钢靶材的电流;将惰性气体通入该腔体中;启动溅镀铝靶材,并逐步通入氮气,生成氮化铝薄膜;关闭铝靶材的电流。本发明利用在金属基材上通过真空溅镀形成绝缘层(氮化铝薄膜),其制造过程简单,易于实施,且可得到绝缘性、高热传导性的金属基板。
申请公布号 CN101298659B 申请公布日期 2010.12.01
申请号 CN200710022100.4 申请日期 2007.04.30
申请人 汉达精密电子(昆山)有限公司 发明人 吴政道;胡振宇;郭雪梅
分类号 C23C14/34(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 1.一种绝缘导热金属基板的制造方法,其特征在于包括以下步骤:(1)提供一金属基材并将其配置于一腔体内;(2)于该腔体内形成接近真空状态;(3)将惰性气体通入该腔体中;(4)启动溅镀不锈钢靶材,进行离子冲击并植入不锈钢;(5)关闭不锈钢靶材的电流;(6)将惰性气体通入该腔体中;(7)启动溅镀铝靶材,并逐步通入氮气,生成氮化铝薄膜,腔体内惰性气体的气压维持在1~3×10<sup>-3</sup>Torr,氮气的气压维持在1~3×10<sup>-3</sup>Torr,需将基板负偏压控制在-300~-600V,并将不锈钢靶材的功率密度控制在0.1~1W/cm<sup>2</sup>,进行离子冲击并植入不锈钢的时间为3~10min;(8)关闭铝靶材的电流,关闭不锈钢靶材的电流前1~3min,需将不锈钢靶材的功率密度控制在5~15W/cm<sup>2</sup>,基板偏压调整在20~60V;其中,上述金属基材为不锈钢或铜,通入氮气前1~3min,需将基板负偏压调整至20~60V,并将铝靶材的功率密度控制在5~15W/cm<sup>2</sup>,当氮化铝薄膜层的厚度为3~5μm时,关闭铝靶材的电流。
地址 215300 江苏省昆山市昆山出口加工区