发明名称 抗反射薄膜、偏振片及其制备方法、液晶显示元件、液晶显示装置和图象显示装置
摘要 本发明提供一种廉价易生产并且具有足够的抗反射性能、耐擦伤性和耐污渍性的抗反射薄膜,以及利用具有这种优异性能的抗反射薄膜的偏振片和液晶显示装置,其中该抗反射薄膜包括透明支持体和折射率比透明支持体的折射率低的低折射率层,其中该低折射率层是最外层,并且低折射率层含有中空二氧化硅颗粒和降低最外层的表面自由能的化合物。
申请公布号 CN1922008B 申请公布日期 2010.12.01
申请号 CN200480042099.6 申请日期 2004.12.24
申请人 富士胶片株式会社 发明人 池田显;村松雄三;加藤荣一;中村和浩
分类号 B32B27/18(2006.01)I;B32B7/02(2006.01)I;C08F214/28(2006.01)I;C08F216/12(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I 主分类号 B32B27/18(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 于辉
主权项 1.一种抗反射薄膜,其包括:透明支持体;和折射率比透明支持体的折射率低的低折射率层,其中所述低折射率层是抗反射薄膜的最外层,并且该低折射率层包括:中空二氧化硅颗粒和能够降低抗反射薄膜的表面自由能的粘合剂;其中,所述粘合剂是式(1)代表的化合物,同时包含聚硅氧烷和氟;<img file="F200480042099601C00011.GIF" wi="1519" he="473" />其中L代表具有1-10个碳原子的连接基团;X代表氢原子或甲基;A代表由乙烯基单体衍生的重复单元;x、y和z各自代表各个重复单元的mol%,并且满足30≤x≤60、5≤y≤70和0≤z≤65。
地址 日本东京