| 发明名称 | 用于EUV辐射的光栅、用于制造该光栅的方法和波前测量系统 | ||
| 摘要 | 一种用于EUV辐射的光栅，所述光栅包括：多个反射线。每一反射线包括彼此相间布置的多个第一反射点和多个第二反射点。所述第一反射点和所述第二反射点被配置成以满足除以360度余180±10度条件的相互相位差来反射EUV辐射。 | ||
| 申请公布号 | CN101903808A | 申请公布日期 | 2010.12.01 |
| 申请号 | CN200880121899.5 | 申请日期 | 2008.12.19 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | B·克鲁兹卡;M·G·D·维瑞恩斯;M·D·奈格克;K·F·费尼斯达 |
| 分类号 | G02B5/18(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种用于EUV辐射的光栅，所述光栅包括：多个反射线，每一反射线包括彼此相间布置的多个第一反射点和多个第二反射点，其中，所述第一反射点和所述第二反射点被配置成以满足除以360度余180±10度条件的相互相位差来反射EUV辐射。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||