发明名称 基板处理装置、磁性设备的制造装置及制造方法
摘要 本发明提供基板处理装置、磁性设备的制造装置及制造方法。该基板处理装置能够根据形成的膜的材质来切换是否对基板施加磁场,从而能够在同一个室内形成磁性层和非磁性层这两者。溅射装置(100)包括:基板保持架(102),支承基板(W);磁铁保持架(106),配置在基板保持架的周围;磁铁(104),可移动地载置在磁铁保持架上;支承构件(103),面向磁铁地突出设置在基板保持架上;连结构件(105),面向基板保持架地突出设置在磁铁上;旋转机构(121),使基板保持架或磁铁保持架中的至少一个转动;连结切换机构(122),在通过旋转机构的转动而使支承构件与连结构件的位置对齐时,使基板保持架上下运动而将支承构件与连结构件结合或脱离,切换是否对基板(W)施加磁场。
申请公布号 CN101903559A 申请公布日期 2010.12.01
申请号 CN200980000400.X 申请日期 2009.03.02
申请人 佳能安内华股份有限公司 发明人 细谷裕之;恒川孝二;永峰佳纪
分类号 C23C14/34(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;张会华
主权项 一种基板处理装置,其特征在于,包括:基板保持架,支承基板;磁铁保持架,配置在上述基板保持架的周围;磁铁,能移动地载置在上述磁铁保持架上;支承构件,面向上述磁铁地突出设置在上述基板保持架上;连结构件,配置于上述磁铁上,与上述支承构件结合;旋转机构,使上述基板保持架或上述磁铁保持架中的至少一个转动;连结切换机构,在通过上述旋转机构的转动而使上述支承构件与上述连结构件的位置对齐时,使上述基板保持架上下运动而将上述支承构件与上述连结构件结合或脱离,切换是否对上述基板施加磁场。
地址 日本神奈川县