光蚀刻用清洗液及抗蚀图案的形成方法

摘要

本发明提供一种新颖的光蚀刻用清洗液，该清洗液对抗蚀图案而言，是为了减少制品的表面缺陷的所谓瑕疵、防止水冲洗时的图案破坏的发生、又赋予抗蚀剂对电子射线照射的耐受性、抑制图案的收缩而使用的，且在储存中又不会发生因细菌造成的污染。该光蚀刻用清洗液，包括含有下述通式(式中的R¹为可被氧原子中断的碳原子数8～20的烷基或羟烷基；R²及R³为碳数1～5的烷基或羟烷基)所示的含氧化胺化合物的水性溶液。[化学式1]

主权项

1.一种包含水性溶液的液体在光蚀刻中作为清洗液的用途，所述水性溶液含有至少一种下述通式所示的氧化胺化合物：[化学式1]式中的R¹为可被氧原子中断的碳原子数8～20的烷基或羟烷基；R²及R³为碳原子数1～5的烷基或羟烷基。