发明名称 基板处理装置的控制装置和控制方法
摘要 本发明提供基板处理装置的控制装置、控制方法和存储有控制程序的存储介质。根据每批次所要求的微细加工的程度,对晶片的搬送进行控制。基板处理装置包括对晶片实施规定处理的多个PM和内置有搬送晶片的搬送机构的LLM。EC对基板处理装置进行控制。EC的选择部选择接下来应该将晶片搬送到的PM,并且根据每批次所要求的微细加工的程度,针对每批次选择使搬送到同一PM的晶片的单位为1批次单位或1晶片单位中的任一个。EC的搬送控制部,在选择批次单位的搬送的情况下,将该批次中包含的晶片依次搬送到被选择的同一PM,在选择晶片单位的搬送的情况下,将该批次中包含的各晶片从被选择的PM一块一块地依次OR搬送到其它的PM。
申请公布号 CN101192055B 申请公布日期 2010.12.01
申请号 CN200710194605.9 申请日期 2007.11.27
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 沼仓雅博
分类号 G05B19/04(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/68(2006.01)I 主分类号 G05B19/04(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种控制装置,对基板处理装置进行控制,该基板处理装置包括对基板进行规定处理的多个处理室和搬送所述基板的搬送机构,其特征在于,包括:选择部,选择接下来应该搬送到的处理室,并且,针对每个批次,在要求微细加工处理的情况下,选择1批次单位作为搬送到同一处理室的基板的单位,在不要求微细加工处理的情况下,选择1基板单位作为搬送到同一处理室的基板的单位;和搬送控制部,将由所述选择部选择的单位中包含的基板依次搬送到由所述选择部选择的处理室中。
地址 日本东京都