涂胶显影设备的工艺墙

摘要

一种涂胶显影设备的工艺墙，属于半导体晶片涂胶显影技术领域。本发明工艺墙的各工艺单元平行并列排布，所述工艺墙的各单元均有一个晶片进出口端，该晶片进出口端为弧型通透式结构。本发明的有益效果：工艺墙各单元进出口的弧型结构，使晶片传输形成透递传输的工艺方式，突破了涂胶显影设备传统的晶片传输方式，减少了晶片传输路径中的瓶颈，也减少了工艺段机器人的工作工位，使得整个工艺墙的各工艺单元有效利用率得以提高。满足了大规模、高产能涂胶显影工艺的生产要求。应用本发明的结构设备，占地面积小，有效地减少了环境对晶片在传输过程中的污染；有效地减少了设备的投资成本，生产效率得以提高。

主权项

一种涂胶显影设备的工艺墙，是由多个相互平行、并列排布的工艺单元构成，其特征在于：所述工艺墙为两个外形结构相同的墙体，工艺墙各单元均有一个弧型通透式结构的晶片进出口端，且所述两个墙体的弧型进出口端相对放置，每个墙体的工艺单元叠加放置。