发明名称 |
成像设备及成像方法 |
摘要 |
一种成像设备,包括感光体,该感光体包括基底和依次位于基底上的中间层、电荷生成层、和电荷传输层;对感光体充电的充电器;辐射感光体以在其上形成静电潜像的辐照器;图像显影装置,其利用调色剂使静电潜像显影以在感光体上形成调色剂图像;转印装置,其将调色剂图像转印到记录介质上;定影装置,其将调色剂图像定影到记录介质上;和放电装置,其利用光去除感光体上残余电位。其中该中间层包括金属氧化物,电荷生成层包括有机电荷生成材料,且辐照器利用短于450nm波长的、在中间层内的金属氧化物中无吸收的写入光辐射感光体。 |
申请公布号 |
CN101025591B |
申请公布日期 |
2010.12.01 |
申请号 |
CN200710092365.1 |
申请日期 |
2007.01.24 |
申请人 |
株式会社理光 |
发明人 |
新美达也 |
分类号 |
G03G15/02(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I;G03G5/04(2006.01)I;G03G5/06(2006.01)I;G03G21/18(2006.01)I;G03G13/02(2006.01)I;G03G13/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03G15/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
宋莉 |
主权项 |
一种成像设备,包括:感光体,包括:基底;以及光敏层,该光敏层包括:叠置在基底上的中间层,该中间层包括电荷阻挡层和叠置在该电荷阻挡层上的抗波纹层;叠置在中间层上的电荷生成层;以及叠置在电荷生成层上的电荷传输层;充电器,其设置为对感光体充电;辐照器,其设置为辐射感光体以在其上形成静电潜像;图像显影装置,其设置为利用调色剂使静电潜像显影以在感光体上形成调色剂图像;转印装置,其设置为将调色剂图像转印到记录介质上;定影装置,其设置为将调色剂图像定影到记录介质上;以及放电装置,其设置为利用光去除感光体上的残余电位;其中该中间层的该抗波纹层包括金属氧化物,该电荷生成层包括电荷生成有机材料,且该辐照器利用短于450nm波长的、在中间层的该抗波纹层内的金属氧化物中不吸收的写入光辐射感光体。 |
地址 |
日本东京都 |