| 发明名称 | 使涂在抗反射涂层上的光致抗蚀剂成像的方法 | ||
| 摘要 | 本发明的方法涉及使涂在抗反射涂膜上的光致抗蚀剂膜成像，包括a)由抗反射涂料组合物形成抗反射涂膜，其中该组合物包含硅氧烷聚合物，b)用含水碱性处理溶液处理该抗反射膜，c)用含水清洗液清洗该经处理的抗反射膜，d)在该抗反射涂料组合物的膜上形成光致抗蚀剂的涂层，e)将该光致抗蚀剂膜成像式曝光，和f)用含水碱性显影溶液将该光致抗蚀剂显影。 | ||
| 申请公布号 | CN101903830A | 申请公布日期 | 2010.12.01 |
| 申请号 | CN200880121715.5 | 申请日期 | 2008.12.15 |
| 申请人 | AZ电子材料美国公司 | 发明人 | D·阿布达拉;A·D·迪奥塞斯;A·G·蒂姆科;张汝志 |
| 分类号 | G03F7/075(2006.01)I;G03F7/09(2006.01)I;G03F7/16(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/075(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 宓霞 |
| 主权项 | 使涂在抗反射涂层上的光致抗蚀剂成像的方法，包括：a)由抗反射涂料组合物形成抗反射膜，其中该组合物包含硅氧烷聚合物，b)用含水碱性处理溶液处理该抗反射膜；c)用含水清洗液清洗该经处理的抗反射膜；d)在该抗反射涂料组合物的膜上形成光致抗蚀剂的涂层，e)将该光致抗蚀剂膜成像式曝光；和f)用含水碱性显影溶液将该光致抗蚀剂显影。 | ||
| 地址 | 美国新泽西 | ||