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发明名称 DISPOSITIF D'INTRODUCTION D'UN FLUIDE DANS UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR,CHAMBRE DE TRAITEMENT CORRESPONDANTE ET UTILISATION DE LA CHAMBRE.
摘要
申请公布号 FR2928937(B1) 申请公布日期 2010.11.26
申请号 FR20080001477 申请日期 2008.03.18
申请人 ALTATECH SEMICONDUCTOR 发明人 VITIELLO JULIEN;MONCHOIX HERVE
分类号 C23C16/448;C23C16/455 主分类号 C23C16/448
代理机构 代理人
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