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发明名称 GAS MODULATION TO CONTROL EDGE EXCLUSION IN A BEVEL EDGE ETCHING PLASMA CHAMBER
摘要
申请公布号 KR20100123823(A) 申请公布日期 2010.11.25
申请号 KR20107016850 申请日期 2009.01.16
申请人 LAM RESEARCH CORPORATION 发明人 FANG TONY;KIM YUNSANG;BAILEY ANDREW D.;RIGOUTAT OLIVIER
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
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