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发明名称 Verfahren zum Herstellen einer Halbleitereinrichtung mit Oxidfilmschichten verschiedener Stärken
摘要
申请公布号 DE102004024603(B4) 申请公布日期 2010.11.25
申请号 DE200410024603 申请日期 2004.05.13
申请人 ELPIDA MEMORY INC. 发明人 KANDA, TAKAYUKI
分类号 H01L21/336;H01L21/316;H01L21/8234;H01L21/8244;H01L27/088;H01L27/10;H01L27/11 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
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