发明名称 一种硫化亚锡薄膜太阳能电池的制备方法
摘要 本发明涉及一种硫化亚锡薄膜太阳能电池的制备方法,属太阳能制造工艺技术领域。本发明方法特征在于磁控溅射法制备ZnO衬底、真空蒸发法沉积SnS薄膜和Al电极;本发明的具体步骤包括:N型窗口层材料ZnO薄膜的制备,P型吸收层材料SnS薄膜的制备,Al电极的制备,最终制成本发明的倒序结构的ITO/ZnO/SnS/Al太阳能电池。本发明的太阳能器件适合于光电太阳能光伏电池。
申请公布号 CN101894877A 申请公布日期 2010.11.24
申请号 CN200910051761.9 申请日期 2009.05.22
申请人 伍丽 发明人 伍丽
分类号 H01L31/18(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种硫化亚锡太阳能电池的制备方法,其特征在于通过真空蒸发法在由磁控溅射法制备的氧化锌(ZnO)衬底上沉积硫化亚锡(SnS)薄膜,并采用Al材料为电极而得到了能将光能转化为电能的太阳能电池。该方法包括以下工艺步骤:a.N型窗口层材料ZnO薄膜的制备:采用射频磁控溅射法在普通玻璃衬底上制备一层本征ZnO薄膜,并以该参数在ITO衬底上沉积ZnO薄膜形成ZnO衬底以用作太阳能电池的窗口层。得到用以制备ZnO/SnS异质结的ZnO薄膜的最佳工艺参数为:沉积时间为40min,工作气压为0.2Pa,功率为150W,在该条件下制备出来的ZnO薄膜质量好,半高宽(FWHM)较小,而且表面非常光滑整洁,比较适用于用来制备ZnO/SnS异质结中的n层ZnO薄膜。b.P型吸收层材料SnS薄膜的制备:采用真空蒸发法在ZnO衬底上制备SnS薄膜,得到用以制备ZnO/SnS太阳能的SnS薄膜的工艺参数为:衬底温度为400K,真空度为4.0×10‑4Pa,衬底与蒸发源的距离为10cm,蒸发源温度为1000℃,采用自行设计的晶振电路对薄膜生长进行实时监控制备得到了SnS薄膜的最佳厚度为150nm。c.Al电极的制备:采用真空蒸发法制备Al电极,使用钨棒蒸镀,将铝丝弯曲并挂于酸碱处理过的钨棒上,然后在钨棒上增加电压。利用铝和钨的亲和作用当温度升高时,铝丝溶解后会自然地亲和在钨棒上,在蒸镀时应注意保持Al电极的沉积速率保持在2~3nm/s左右,以此可得到高质量的膜厚为100nm的Al电极。
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