发明名称 |
粘合型光学薄膜的剥离方法以及粘合型光学薄膜 |
摘要 |
本发明的目的在于,提供不损坏玻璃基板、在玻璃基板上不产生残胶、且容易地从贴附有粘合型光学薄膜的玻璃基板上剥离粘合型光学薄膜的方法,以及在该剥离方法中使用的粘合型光学薄膜。该粘合型光学薄膜的剥离方法是从带光学薄膜的玻璃基板上剥离粘合型光学薄膜的粘合型光学薄膜的剥离方法,所述带光学薄膜的玻璃基板在玻璃基板上贴附有粘合型光学薄膜,其特征在于,将带光学薄膜的玻璃基板在温度40~98℃且相对湿度60~99%的环境下暴露3分钟以上,然后在前述环境下从玻璃基板上将粘合型光学薄膜剥离。 |
申请公布号 |
CN101896841A |
申请公布日期 |
2010.11.24 |
申请号 |
CN200980101343.4 |
申请日期 |
2009.01.20 |
申请人 |
日东电工株式会社 |
发明人 |
中野史子;诸石裕;松浦爱美;细川敏嗣;田中亚树子 |
分类号 |
G02B5/30(2006.01)I;C09J7/02(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;G09F9/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/30(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;李茂家 |
主权项 |
一种粘合型光学薄膜的剥离方法,其为从带光学薄膜的玻璃基板上剥离粘合型光学薄膜的粘合型光学薄膜的剥离方法,所述带光学薄膜的玻璃基板在玻璃基板上贴附有粘合型光学薄膜,其特征在于,将带光学薄膜的玻璃基板在温度40~98℃且相对湿度60~99%的环境下暴露3分钟以上,然后在所述环境下从玻璃基板上将粘合型光学薄膜剥离。 |
地址 |
日本大阪府 |