| 发明名称 | 用于金属移除速率控制的卤化物阴离子 | ||
| 摘要 | 本发明化学机械抛光组合物包含液体载体、过氧化氢、苯并三唑和卤素阴离子。本发明方法包括用该抛光组合物对基材进行化学机械抛光。 | ||
| 申请公布号 | CN101896571A | 申请公布日期 | 2010.11.24 |
| 申请号 | CN200880120789.7 | 申请日期 | 2008.12.17 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 李守田 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 用于抛光基材的化学机械抛光组合物，其包含：(a)液体载体，(b)悬浮于该液体载体中的研磨剂，其中该研磨剂包含胶态二氧化硅颗粒，(c)过氧化氢，(d)选自氯离子、溴离子、以及它们的组合的卤素阴离子，和(e)苯并三唑，其中该化学机械抛光组合物具有6或更小的pH值。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||