| 发明名称 | 负型光阻组合物、图案形成方法、负型光阻组合物的检查方法及调制方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的是提供一种负型光阻组合物、使用其的图案形成方法、其检查方法及调制方法，该负型光阻组合物至少含有：(A)碱可溶性且可由于酸的作用而变为碱不溶性的基础树脂及/或碱可溶性且可由于酸的作用与交联剂反应而变为碱不溶性的基础树脂与交联剂的组合、(B)产酸剂、(C)含有氮作为碱性成分的化合物，其形成为了形成光阻图案而实施曝光处理、显影处理且具有50nm～100nm厚的X nm的光阻膜，其特征在于：该负型光阻组合物在形成图案时的成膜条件下形成光阻膜的情况，对于在形成图案时的显影处理中所使用的碱性显影液的溶解速度，成为0.0333X-1.0nm/sec以上0.0667X-1.6nm/sec以下的值。 | ||
| 申请公布号 | CN101893824A | 申请公布日期 | 2010.11.24 |
| 申请号 | CN201010178168.3 | 申请日期 | 2010.05.13 |
| 申请人 | 信越化学工业株式会社 | 发明人 | 田中启顺;增永惠一;土门大将;渡边聪 |
| 分类号 | G03F7/038(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/038(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 郑小军;冯志云 |
| 主权项 | 一种负型光阻组合物，其至少含有：(A)为碱可溶性且可由于酸的作用而变为碱不溶性的基础树脂、及/或、为碱可溶性且可由于酸的作用与交联剂反应而变为碱不溶性的基础树脂与交联剂的组合、(B)产酸剂、(C)含有氮作为碱性成分的化合物，其是用来形成为了形成光阻图案而实施曝光处理、利用碱性显影液的显影处理，且具有50nm～100nm的膜厚X nm的光阻膜，其特征在于：该负型光阻组合物在形成所述图案时的成膜条件下形成光阻膜的情况时，相对于所述在形成图案时的显影处理中所使用的碱性显影液的溶解速度，成为0.0333X‑1.0nm/sec以上0.0667X‑1.6nm/sec以下的值。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||