可调谐波长的照射系统

摘要

本发明公开了一种可调谐波长的照射系统和一种光刻设备，所述光刻设备具有对准系统，该对准系统包括辐射源，所述辐射源被配置以将窄带辐射转换成连续的平坦的宽带辐射。声学可调谐的窄通带滤光片将所述宽带辐射滤光成窄带线性偏振辐射。所述窄带辐射可以被聚焦到所述晶片的对准目标上，以便能够对准所述晶片。在实施例中，滤光片被配置以调制由所述辐射源产生的辐射的强度和波长且被配置以具有多个同时的通带。辐射源产生具有高的空间相干性和低的时间相干性的辐射。

主权项

一种用于对准具有对辐射进行衍射的多个对准目标的晶片的晶片对准系统，所述对准系统包括：辐射源，所述辐射源被配置以将窄带辐射转换成连续的平坦的宽带辐射；和声学可调谐的窄通带滤光片，所述滤光片被配置以将所述宽带辐射滤光成窄带的线性偏振辐射，所述线性偏振辐射被聚焦到所述晶片的对准目标上，以便能够对准所述晶片。