发明名称 有机无机复合回音壁模式光学微腔激光器的制备方法
摘要 本发明属于集成光学器件制备技术领域,具体为一种有机无机复合回音壁模式光学微腔激光器的制备方法。本发明包括采用溶胶-凝胶法分别配制折射率较低的和较高的有机无机复合材料溶液,然后分别用旋涂甩膜法制备衬底层和有源层,再用紫外光刻法将掩模板上的微腔图形转移到有源层上,刻蚀出微腔,最后制备覆盖层。本发明适合用于制备多功能、高性能的集成光学传感芯片。本方法工艺简单,成本低,制备的有机无机复合回音壁模式光学微腔激光器达到有机类微腔的最好水平。
申请公布号 CN101257185B 申请公布日期 2010.11.24
申请号 CN200810034030.9 申请日期 2008.02.28
申请人 复旦大学 发明人 吴翔;徐雷;刘丽英;李皓
分类号 H01S5/00(2006.01)I;H01S5/10(2006.01)I;H01S5/30(2006.01)I;H01S3/00(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I 主分类号 H01S5/00(2006.01)I
代理机构 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人 陆飞;盛志范
主权项 有机无机复合回音壁模式光学微腔激光器的制备方法,其特征在于具体步骤如下:首先,利用溶胶-凝胶法配制折射率较低的有机无机复合材料溶液,利用旋涂甩膜法在硅片(1)上制备衬底层(2),并用紫外光(3)照射样品,使其中的有机部分聚合,再将样品放入烘箱中处理,使薄膜进一步固化;其次,配制折射率较高的有机无机复合材料溶液,并在其中掺杂有机荧光染料或者量子点材料作为激光的增益介质,利用旋涂甩膜法在衬底层(2)上制备有源层(4);再次,利用紫外光刻技术将掩模板(5)上的微腔图形转移到有源层(4)上,再利用湿法刻蚀工艺,刻蚀出微腔(6);最后,在制备好的样品上制备一层覆盖层(7);其中:所述有机无机复合材料是由甲基丙烯酸丙脂基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酸和丙氧基锆烷三种材料经水解聚合而成,其中,丙氧基锆烷为折射材料;所述折射率较低的有机无机复合材料是指含锆量为4-10%的复合材料,所述折射率较高的有机无机复合材料是指含锆量为18-25%的复合材料,这里的百分比为摩尔比。
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