具有相对衬底倾斜的喷洒头的液体浸没光刻系统

摘要

一种液体浸没式光刻系统，包括投影光学系统和喷洒头。所述投影光学系统被构造用于以图案化的辐射束对衬底进行曝光。所述喷洒头包括第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴和第二喷嘴被设置成在曝光操作过程中与衬底表面相隔不同的距离。

主权项

一种浸没式光刻系统，包括：将图案化的辐射束引导到衬底上的投影光学系统；以及将液流在投影光学系统和衬底之间传送的喷洒头，其中，所述喷洒头包括第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴和所述第二喷嘴所处位置分别与衬底相隔不同的距离，且从第一喷嘴到第二喷嘴的液流方向以一角度倾斜，所述角度至少部分地基于衬底相对于投影光学系统的扫描速度。