发明名称 粘合型光学薄膜的剥离方法以及粘合型光学薄膜
摘要 本发明的目的在于,提供不损坏玻璃基板、在玻璃基板上不产生残胶、且容易地从贴附有粘合型光学薄膜的玻璃基板上剥离粘合型光学薄膜的方法,以及在该剥离方法中使用的粘合型光学薄膜。该粘合型光学薄膜的剥离方法是从带光学薄膜的玻璃基板上剥离粘合型光学薄膜的粘合型光学薄膜的剥离方法,所述带光学薄膜的玻璃基板在玻璃基板上贴附有粘合型光学薄膜,其特征在于,粘合型光学薄膜的粘合剂层由水分散型粘合剂形成,将带光学薄膜的玻璃基板暴露在温度40℃以上且相对湿度80%以上、或者温度50℃以上且相对湿度70%以上的环境下,然后从玻璃基板上剥离粘合型光学薄膜。
申请公布号 CN101896840A 申请公布日期 2010.11.24
申请号 CN200980101342.X 申请日期 2009.01.20
申请人 日东电工株式会社 发明人 高桥俊贵;冈田研一;乾国昭;村山凡子;卷幡阳介
分类号 G02B5/30(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;G09F9/00(2006.01)I 主分类号 G02B5/30(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;李茂家
主权项 一种粘合型光学薄膜的剥离方法,其为从带光学薄膜的玻璃基板上剥离粘合型光学薄膜的粘合型光学薄膜的剥离方法,所述带光学薄膜的玻璃基板在玻璃基板上贴附有粘合型光学薄膜,其特征在于,粘合型光学薄膜的粘合剂层由水分散型粘合剂形成,将带光学薄膜的玻璃基板暴露在温度40℃以上且相对湿度80%以上、或者温度50℃以上且相对湿度70%以上的环境下,然后从玻璃基板上剥离粘合型光学薄膜。
地址 日本大阪府