发明名称 Metal transistor device
摘要 The present invention relates to a depletion or enhancement mode metal transistor in which the channel region of a transistor device comprises a thin film metal or metal composite layer formed over an insulating substrate.
申请公布号 US7838875(B1) 申请公布日期 2010.11.23
申请号 US20040762658 申请日期 2004.01.22
申请人 TSANG DEAN Z 发明人 TSANG DEAN Z.
分类号 H01L29/12;H01L49/00 主分类号 H01L29/12
代理机构 代理人
主权项
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