| 主权项 |
一种光硬化性之树脂组成物，其特征为含有(A)含有羧酸之树脂、(B)含有下述一般式(I)所示之肟酯基的肟酯系光聚合引发剂、@sIMGTIF!d10007.TIF@eIMG!(式中，R1为表示氢原子、碳数1~7之烷基、或苯基，R2为表示碳数1~7个之烷基、或苯基)(C)具有下述一般式(II)所示构造之胺基乙醯苯系光聚合引发剂、@sIMGTIF!d10008.TIF@eIMG!(式中，R3、R4为表示碳数1~12个之烷基或芳烷基，R5、R6为表示氢原子、碳数1~6个之烷基或二个键结之环状烷醚基)(D)分子中具有一个以上之乙烯性不饱和基的化合物(但不包括含有羧酸之化合物)及(E)酞青蓝系颜料，且可经由稀硷溶液予以显像的组成物，其涂膜于400~420nm波长中的吸光度为每25μm为0.5~1.2，该含有羧酸之树脂(A)为于全组成物中，含有20~60质量%，且相对于前述含有羧酸之树脂(A)100质量份，含有该肟酯系光聚合引发剂(B)0.01~10质量份、该胺基乙醯苯系光聚合引发剂(C)0.1~30质量份、该化合物(D)5~100质量份之比例，且该酞青蓝系颜料(E)为含有乾燥涂膜于400~420nm波长中之吸光度为每25μm为0.5~1.2之范围。如申请专利范围第1项之光硬化性之树脂组成物，其中该含有羧酸之树脂(A)为令(a)多官能环氧树脂与(b)不饱和单羧酸反应后，使(c)多元酸酐反应所得之含有羧酸之树脂，更与(d)分子中具有一个环氧乙烷环和一个以上乙烯性不饱和基之化合物反应所得之含有羧酸的感光性树脂(A')。如申请专利范围第1项之光硬化性之树脂组成物，其中该肟酯系光聚合引发剂(B)为含有下述式(III)所示之光聚合引发剂@sIMGTIF!d10009.TIF@eIMG!如申请专利范围第1项之光硬化性之树脂组成物，其中该肟酯系光聚合引发剂(B)为含有具有下述一般式(IV)所示构造之光聚合引发剂、及/或具有下述一般式(V)所示构造之光聚合引发剂@sIMGTIF!d10010.TIF@eIMG!(式中，R7、R8为分别独立表示碳数1~12个之烷基，R9、R10、R11、R12为分别独立表示氢原子或碳数1~6个之烷基，n为表示0~5之整数，R13为表示氢原子或碳数1~12个之烷基，R14、R15为表示碳数1~12个之烷基)。如申请专利范围第1项之光硬化性之树脂组成物，其中该于分子中具有一个以上乙烯性不饱和基之化合物(D)为环氧丙烯酸酯系树脂。如申请专利范围第1项之光硬化性之树脂组成物，其中该蓝色颜料(E)为酞菁蓝系颜料。如申请专利范围第1项之光硬化性之树脂组成物，其为再令(F)二烷胺基二苯酮相对于该含有羧酸之树脂(A)100质量份，含有5质量份以下。如申请专利范围第1项之光硬化性之树脂组成物，其中为再令(G)于分子中具有二个以上环状醚基及/或环状硫醚基之热硬化性成分，相对于该含有羧酸之树脂(A)之羧基1当量，含有0.6~2.0当量。一种光硬化性之乾燥薄膜，其特征为将如申请专利范围第1至8项中任一项之树脂组成物，于载体薄膜上涂布、乾燥所得。一种光硬化性及热硬化性之乾燥薄膜，其特征为将如申请专利范围第1至8项中任一项之树脂组成物，于载体薄膜上涂布、乾燥所得。一种硬化物，其特征为令如申请专利范围第1至8项中任一项之树脂组成物、或如申请专利范围第9项或第10项之乾燥薄膜于铜上光硬化而取得。一种硬化物，其特征为令如申请专利范围第1至8项中任一项之树脂组成物、或如申请专利范围第第9项或第10项之乾燥薄膜以雷射振动光源予以光硬化而取得。一种硬化物，其特征为如申请专利范围第1至8项中任一项之树脂组成物、或如申请专利范围第9项或第10项之乾燥薄膜的硬化皮膜为5~100μm。一种印刷配线板，其特征为令如申请专利范围第1至8项中任一项之树脂组成物、或如申请专利范围第9项或第10项之乾燥薄膜，以波长为350~420nm之雷射光予以光硬化后，热硬化而取得。一种印刷配线板，其特征为如申请专利范围第1至8项中任一项之树脂组成物、或如申请专利范围第9项或第10项之乾燥薄膜的硬化皮膜为5~100μm。 |
