| 主权项 |
一种用于在基板(40,27,50,90)上产生高解析度表面图案(41,51,93,95,98)之制程，其中，于该制程中，一印刷物质(44,26)系藉由一种印刷制程以图案形式而施加至基板(40,27,50,90)，特征在于：针对于表面图案(41,51,93,95,98)之细微结构，在该印刷物质之施加前，具有复数个沟槽之一显微表面结构(24,45,52,53,54,61至65,71,72,81,82)系复制于该基板之表面，且特征在于：表面图案(41,51,93,95,98)之细微结构系由印刷物质(44,26)之个别局部施加的施加量与显微表面结构(45,24,52至54,63至64,71,72,81,82)之个别局部的凸版参数(尤其是方位方向与轮廓形状)所决定。如申请专利范围第1项之制程，其特征在于：表面图案(41,51,93,95,98)之细微结构系藉着显微表面结构(24,45,52,53,54)之沟槽的方位方向之变化而实施。如申请专利范围第1项之制程，其特征在于：表面图案(93,95,98)之细微结构系藉着显微表面结构(61至65)之沟槽的轮廓深度之变化而实施。如申请专利范围第1项之制程，其特征在于：表面图案(93,95,98)之细微结构系藉着显微表面结构(71,72,81,82)之沟槽的轮廓形状之变化而实施。如申请专利范围第1项之制程，其特征在于：表面图案(41,51)之一表面区域的宽度系藉着介于该表面区域的纵轴与显微表面结构(45)的关联部分的方位方向之间的角度之选取而决定。如申请专利范围第1项之制程，其特征在于：表面图案(51)之一表面区域的宽度系藉着区域(52,53)之设置于该表面区域而变化，区域(52,53)具有对于该表面结构之不同的方位方向。如申请专利范围第6项之制程，其特征在于：表面图案(51)之一表面区域的宽度系藉着至少二个区域(52,53)之设置于该表面区域而变化，区域(52,53)具有相对于彼此而旋转90度之表面结构的方位方向。如申请专利范围第1项之制程，其特征在于：表面图案(51)之一表面区域的宽度系藉着具有表面结构之不同的轮廓形状及/或轮廓深度之区域之设置于该表面区域而变化。如申请专利范围第1项之制程，其特征在于：表面图案(95,98)之一表面区域的中心系藉着该显微表面结构之关联部分的一不对称轮廓形状而改变。如申请专利范围第5至9项任一项之制程，其特征在于：该表面区域的宽度系小于50微米。如申请专利范围第1项之制程，其特征在于：波纹图案(101,102,103,104,105)系藉由相邻的表面区域之细微结构而产生，此乃藉着于显微表面结构之局部凸版参数的变化而达成。如申请专利范围第1项之制程，其特征在于：一微字体图案系藉由细微结构而产生，此乃藉着于显微表面结构之局部凸版参数的变化而达成。如申请专利范围第1项之制程，其特征在于：印刷物质层(133,134)的厚度以一预先界定的方式而变化于其中之一区域系藉着变化显微表面结构(131,132)之沟槽的轮廓深度而产生。如申请专利范围第13项之制程，其特征在于：运用一高折射率的漆作为印刷物质，且一透镜体系藉着于该区域之沟槽的轮廓深度之变化而产生。如申请专利范围第1项之制程，其特征在于：该表面图案之细微结构系藉着于显微表面结构之凸版参数的变化而实施，且每单位之表面积有实质固定施加量之印刷物质。如申请专利范围第1项之制程，其特征在于：该显微表面结构系具有超过50沟槽/毫米的一空间频率(较佳为100至1200沟槽/毫米)，且具有小于2微米的一轮廓深度(较佳为0.2至1.0微米)。一种具有基板层(25)及图案层(26)之多层体(28)，该图案层系配置于基板层上且以一高解析度表面图案的图案形式而成形于基板层，其中，图案层(26)包含一印刷物质，其藉由一种印刷制程以图案形式而施加至基板层，特征在于：针对于表面图案之细微结构，在该印刷物质之施加前，具有复数个沟槽之一显微表面结构(24)系复制于基板层之表面，其中，该表面图案之细微结构系由印刷物质之个别局部施加的施加量与显微表面结构之个别局部的凸版参数(尤其是方位方向与轮廓形状)所决定。如申请专利范围第17项之多层体，其特征在于：该多层体系一薄膜，尤其是一热压印薄膜或一叠合薄膜。如申请专利范围第17或18项之多层体，其特征在于：该印刷物质系一蚀刻阻剂。如申请专利范围第17或18项之多层体，其特征在于：该印刷物质系一蚀刻剂。如申请专利范围第17或18项之多层体，其特征在于：该印刷物质系含有一有机的半导体材料。一种用于在基板上产生高解析度表面图案之设备，其中，该设备具有以图案形式而施加一印刷物质至基板之一印刷站(36)，特征在于：该设备具有针对于表面图案之细微结构而配置于印刷站(36)的上游之一复制站(35)，其适于复制具有复数个沟槽之一显微表面结构至基板之表面，且印刷站(36)系进而适于施加印刷物质至基板之显微表面结构，使得表面图案之一预定的细微结构系由印刷物质之个别局部施加的施加量与显微表面结构之个别局部的凸版参数(尤其是方位方向与轮廓形状)所产生。如申请专利范围第22项之设备，其特征在于：印刷站(36)具有用于以准确的对齐关系而施加印刷物质之一装置。如申请专利范围第22项之设备，其特征在于：该设备系具有一中央圆筒(34)，该复制站(35)与印刷站(36)系配置于中央圆筒(34)。 |
