| 主权项 |
一种回射透镜，包含：一基材，其包含一前部及一后部平面表面，该前部包含一具有绕射透镜轮廓之透镜用以相对于该后部平面表面来聚焦穿过该透镜且进入该基材之光，其中该透镜系于该基材之前部微影地形成，以及其中位于微影地形成之该透镜与该后部平面表面间之该基材的一厚度系被微影地控制，以及其中至少相对于该绕射透镜轮廓接收来自该绕射透镜轮廓的光之该后部平面表面的部分，系均匀地涂覆一层反射材料或接合一反射材料之均匀涂覆层。如申请专利范围第1项之回射透镜，其中位于该透镜与该后部平面表面间之该基材的一厚度系藉由抛光该透镜及前部而被微影地控制。如申请专利范围第2项之回射透镜，其中该抛光系为化学机械抛光(CMP)。如申请专利范围第1项之回射透镜，其中该透镜为凸形且自该基材的前部往外延伸。如申请专利范围第1项之回射透镜，其中该透镜的一中心部分为凸形。一种外部空腔雷射，包含：一增益媒介，其将光导往一准直透镜，该准直透镜将光导往一回射透镜，该回射透镜包含：一基材，其具有一前部及一后部平面表面，该前部包含一具有绕射透镜轮廓并导往该增益媒介之透镜，其以相对于该后部平面表面聚焦自该增益媒介所接收的光，其中该透镜系于该基材之前部微影地形成，以及其中位于被微影地形成之该透镜与该后部平面表面间之该基材的厚度系被微影地控制，以及其中至少相对于该绕射透镜轮廓接收来自该绕射透镜轮廓的光之该后部平面表面的部分，系均匀地涂覆一层反射材料或接合一反射材料之均匀涂覆层。如申请专利范围第6项之外部空腔雷射，其中该基材系由一具有一折射率之材料制成且该导往回射透镜之光系具有一频率，及其中该前部上的透镜与该后部平面表面上的一焦点之间的该回射透镜的一工作距离系为该基材的折射率及该穿过该回射透镜之光的频率之一函数。一种用以制造回射透镜之方法，该方法包含下列步骤：提供一基材及一前面及一后面平面表面，抛光该基材的前面及后面平面表面之至少一者以获得一第一预备厚度，及在该前面上微影地蚀刻一绕射透镜轮廓以形成一凸透镜，其中该抛光及微影地蚀刻步骤系于该前面上的凸透镜与该后面平面表面上的一焦点间提供该回射透镜的一工作距离，该工作距离为用以制造该基材之一材料的折射率及穿过该回射透镜之光的频率之一函数，以及其中至少相对于该绕射透镜轮廓接收来自该绕射透镜轮廓的光之该后面平面表面的部分，系均匀地涂覆一层反射材料或接合一反射材料之均匀涂覆层。 |
