Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie mit einer derartigen abbildenden Optik

摘要

Eine abbildende Optik (7) hat eine Mehrzahl von Spiegeln (M1 bis M6), die ein Objektfeld (4) in einer Objektebene (5) in ein Bildfeld (8) in einer Bildebene (9) abbilden. Die abbildende Optik (7) hat eine Pupillenobskuration. Der letzte Spiegel (M6) im Strahlengang von Abbildungslicht (3) zwischen dem Objektfeld (4) und dem Bildfeld (8) hat eine Durchgangsöffnung (18) zum Durchgang des Abbildungslichts (3). Ein im Strahlengang des Abbildungslichts (3) zwischen dem Objektfeld (4) und dem Bildfeld (8) vorletzter Spiegel (M5) der abbildenden Optik (7) hat keine Durchgangsöffnung zum Durchgang des Abbildungslichts (3). Es resultiert eine abbildende Optik, mit der eine handhabbare Kombination aus geringen Abbildungsfehlern, beherrschbarer Herstellung und gutem Durchsatz für das Abbildungslicht erreicht ist.