发明名称 |
Transistorbauelement mit Abschirmstruktur |
摘要 |
Beschrieben wird ein Transistorbauelement, das aufweist: eine Sourcezone (12) eines ersten Leitungstyps, die an den Sourceanschluss (S) angeschlossen ist und eine Drainzone (14) des ersten Leitungstyps, die an den Drainanschluss (D) angeschlossen ist; eine zwischen der Sourcezone (12) und der Drainzone (14) angeordnete Driftzone (11); eine Sperrschichtsteuerstruktur zur Steuerung einer Sperrschichtzone in der Driftzone (11) zwischen der Drainzone (14) und der Sourcezone (12), die wenigstens eine Steuerzone (13; 41) aufweist; eine Abschirmstruktur die in der Driftzone (11) zwischen der Sperrschichtsteuerstruktur (13; 41) und der Drainzone (14) angeordnet ist und die wenigstens eine Abschirmzone (21) eines zu dem ersten Leitungstyp komplementären zweiten Leitungstyps aufweist, wobei die Abschirmzone (21) an einen Anschluss (S; G; G') für ein Abschirmpotenzial gekoppelt ist und wobei die wenigstens eine Steuerzone (13; 41) und die wenigstens eine Abschirmzone (21) eine unterschiedliche Geometrie oder eine unterschiedliche Ausrichtung in einer Ebene quer zu einer Stromflussrichtung des Bauelements besitzen.
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申请公布号 |
DE102010027886(A1) |
申请公布日期 |
2010.11.18 |
申请号 |
DE201010027886 |
申请日期 |
2010.04.16 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG |
发明人 |
PETERS, DETHARD;FRIEDRICHS, PETER;ELPELT, RUDOLF;WEHRHAHN-KILIAN, LARISSA;TREU, MICHAEL;RUPP, ROLAND |
分类号 |
H01L29/80 |
主分类号 |
H01L29/80 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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