发明名称 |
液晶显示装置用薄膜晶体管 |
摘要 |
本发明披露了液晶显示装置用薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括形成在基板上的栅极;由具有官能团、金属氧化物、硅和氧的键结构的高介电常数绝缘体形成的栅极绝缘膜;和形成在所述栅极绝缘膜上的源极和漏极。 |
申请公布号 |
CN101211984B |
申请公布日期 |
2010.11.17 |
申请号 |
CN200710300109.7 |
申请日期 |
2007.12.17 |
申请人 |
乐金显示有限公司 |
发明人 |
许宰硕;田雄基;金柄杰 |
分类号 |
H01L29/786(2006.01)I;H01L29/51(2006.01)I;H01L51/05(2006.01)I;H01L51/30(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
丁香兰 |
主权项 |
一种LCD装置用薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括:形成在基板上的栅极;由具有官能团、金属氧化物、硅和氧的键结构的高介电常数绝缘体形成的栅极绝缘膜;和形成在所述栅极绝缘膜上的源极和漏极,其中所述高介电常数绝缘体具有硅(Si)-氧(O)-金属氧化物(Me)的单元键结构,其中所述硅(Si)-氧(O)-金属氧化物(Me)的单元键结构为梯型单元结构,其具有分别分布在六个顶点上的硅和金属氧化物;或者其中所述硅(Si)-氧(O)-金属氧化物(Me)的单元键结构为笼型单元结构,其具有分别分布在八个顶点上,或分别分布在九个至十八个顶点上的硅和金属氧化物。 |
地址 |
韩国首尔 |