发明名称 |
双压电晶片元件、双压电晶片开关、密勒元件及其制造方法 |
摘要 |
一种双压电晶片元件,具备:氧化硅层;高膨胀率层,其形成在氧化硅层上且具有较此氧化硅层的热膨胀率还高的热膨胀率;以及变形防止层,其覆盖氧化硅层的表面,以防止氧化硅层由于经常变化所形成的变形。变形防止层相对于水份和氧的透过率亦可较氧化硅层还低,变形防止层亦可以是一种以较形成氧化硅层时还高的能量来进行成膜时所形成的氧化硅,变形防止层亦可为氮化硅层或金属层。 |
申请公布号 |
CN101027741B |
申请公布日期 |
2010.11.17 |
申请号 |
CN200580029357.1 |
申请日期 |
2005.08.31 |
申请人 |
爱德万测试株式会社 |
发明人 |
高柳史一;三瓶广和 |
分类号 |
H01H61/01(2006.01)I;B81B3/00(2006.01)I;G02B26/08(2006.01)I;H01H61/013(2006.01)I;H01H37/14(2006.01)I;H01H37/52(2006.01)I |
主分类号 |
H01H61/01(2006.01)I |
代理机构 |
北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 |
代理人 |
寿宁 |
主权项 |
一种双压电晶片元件,其特征在于具备:氧化硅层;高膨胀率层,其形成在氧化硅层上且具有较此氧化硅层的热膨胀率还高的热膨胀率,以及变形防止层,其是氮化硅层且覆盖氧化硅层的表面,以防止氧化硅层由于经常变化所形成的变形,在所述双压电晶片元件的断面中,所述变形防止层覆盖所述氧化硅层的一端直到所述氧化硅层的另一端。 |
地址 |
日本东京练马区旭町1丁目32番1号 |