发明名称 湿法腐蚀制备精细金属掩膜漏板的方法
摘要 湿法腐蚀制备精细金属掩膜漏板的方法,涉及真空镀精细图形镀膜的过程中的掩膜漏板的加工领域,它解决了现有采用化学腐蚀的方法制备金属掩板尺寸误差大,并且在加工过程中金属掩膜漏板容易发生侧腐的问题,本发明方法为:首先选择铁铬合金薄片作为金属掩膜漏板基材,其次对所述的金属基材双面蒸镀不同的金属材料,再次采用光刻方法实现双面精确紫外曝光,最后通过自制的具有选择性腐蚀特性的化学腐蚀液进行腐刻,实现金属掩膜漏板的精细加工。本发明所述的方法能够制备出高精细的图形完整的金属掩膜漏板。本发明适用于精细金属掩膜漏板的制备领域。
申请公布号 CN101887214A 申请公布日期 2010.11.17
申请号 CN201010228796.8 申请日期 2010.07.16
申请人 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 发明人 李志明;孙晓娟;宋航;黎大兵;陈一仁;缪国庆;蒋红
分类号 G03F1/00(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I 主分类号 G03F1/00(2006.01)I
代理机构 长春菁华专利商标代理事务所 22210 代理人 陶尊新
主权项 湿法腐蚀制备精细金属掩膜漏板的方法,其特征是,该方法由以下步骤实现:步骤一、选取铁铬合金薄片(1)作为金属掩膜漏板的基材;步骤二、对步骤一选取的铁铬合金薄片(1)进行表面处理,然后采用烤箱将所述铁铬合金薄片(1)烘干,获得处理后的铁铬合金薄片(1);步骤三、采用真空镀膜的方法将步骤二获得的铁铬合金薄片(1)一面蒸镀金属钛(2),另一面蒸镀金属镍铬(3);获得双面镀膜的铁铬合金薄片(1);步骤四、采用匀胶机将步骤三获得的双面镀膜的铁铬合金薄片(1)双面旋涂光刻胶(4),获得带有光刻胶图形的铁铬合金薄片(1);步骤五、采用自制的腐蚀液对步骤四所述的铁铬合金薄片(1)、金属钛(2)和金属镍铬(3)进行腐蚀,获得金属掩膜漏板。
地址 130033 吉林省长春市东南湖大路3888号