一种铜铬合金选择性表面纳米化的方法

摘要

一种铜铬合金选择性表面纳米化的方法，属于材料技术领域，按以下步骤进行：(1)选取Cr颗粒尺寸为30～180μm的铜铬合金，用刚性丸粒撞击至Cr颗粒尺寸为1～10μm，然后在真空和80～350℃初级退火；(2)将初级退火后的铜铬合金用刚性丸粒撞击至Cr颗粒尺寸为0.1～1μm，然后在真空和280～350℃中级退火；(3)将中级退火后的铜铬合金用刚性丸粒撞击至Cr颗粒尺寸为10～100nm，然后在真空和500～600℃最终退火，在铜铬合金表面制备出纳米层。本发明的方法获得的铜铬合金的表面硬度、击穿电压和电导率均有明显增加，并且最大截流值也明显降低，在电触头材料的应用上具有更良好的效果。本方法设备投资少，操作简单，易于实现工业化。

主权项

一种铜铬合金选择性表面纳米化的方法，其特征在于按以下步骤进行：(1)选取Cr颗粒尺寸为30～180μm的铜铬合金，将铜铬合金用刚性丸粒撞击进行初级破碎，破碎至铜铬合金中Cr颗粒尺寸为1～10μm，然后将铜铬合金放入真空炉中，在真空度为1×10-4～9×10-3Pa和温度280～350℃条件下进行初级退火，退火时退火时间为10～60min；(2)将初级退火后的铜铬合金用刚性丸粒撞击进行中级破碎，破碎至铜铬合金中Cr颗粒尺寸为0.1～1μm，然后将铜铬合金放入真空炉中，在真空度为1×10-4～9×10-3Pa和温度280～350℃条件下进行中级退火，退火时间为10～60min；(3)将中级退火后的铜铬合金用刚性丸粒撞击进行最终破碎，破碎至铜铬合金中Cr颗粒尺寸为10～100nm，然后将铜铬合金放入真空炉中，在真空度为1×10-4～9×10-3Pa和温度500～600℃条件下进行最终退火，退火时间为30～120min，在铜铬合金表面制备出纳米层。