一种超临界二氧化碳吹洗硅片系统

摘要

本实用新型公开了一种超临界二氧化碳吹洗硅片系统，包括：氟化氢源、液态二氧化碳源、第一流量控制阀、第二流量控制阀、加热器、高压泵、高压密闭腔室(5)、针型阀(8)、溢出腔(9)、碱性溶液(10)、过滤纯化装置(11)和冷凝系统(12)。利用本实用新型，提高了杂质去除率，减少了硅片的整体缺陷，提高了最终成品率。

主权项

一种超临界二氧化碳吹洗硅片系统，其特征在于，该系统包括：氟化氢源，用于提供氟化氢气体，去除硅片表面的自然氧化层；液态二氧化碳源，用于提供二氧化碳气体，清洗硅片表面的颗粒以及有机物薄膜；第一流量控制阀(1)，安装于氟化氢源与高压泵(4)之间的管道上，用于控制氟化氢气体的流量；第二流量控制阀(2)，安装于液态二氧化碳源与高压泵(4)之间的管道上，用于控制二氧化碳气体的流量；加热器(3)，安装于高压泵(4)与高压密闭腔室(5)之间的气体输入管道上，用于加热二氧化碳使其达到临界温度；高压泵(4)，安装于加热器(3)与第一流量控制阀(1)或第二流量控制阀(2)之间的气体输入管道上，用于控制进入高压密闭腔室(5)中氟化氢和二氧化碳的气体压力；高压密闭腔室(5)，内部安装有可旋转支架(7)，该可旋转支架(7)上固定有待清洗硅片(6)；针型阀(8)，安装于高压密闭腔室(5)的气体输出管道上，用于控制气体的流通；溢出腔(9)，安装于高压密闭腔室(5)气体输出管道的针型阀(8)之后，用于缓冲从高压密闭腔室(5)中出来的气体；碱性溶液(10)，安装于高压密闭腔室(5)气体输出管道的溢出腔(9)之后，用于去除尾气中的HF和反应产物；过滤纯化装置(11)，安装于高压密闭腔室(5)气体输出管道的碱性溶液(10)之后，用于干燥和纯化尾气中的二氧化碳；以及冷凝系统(12)，安装于过滤纯化装置(11)与液态二氧化碳源之间，用于使干燥和纯化后二氧化碳变为液态。