发明名称 铜合金材料、铜合金导体及其制造方法、电缆和电车用供电线
摘要 本发明提供了高强度且高导电率的铜合金材料、铜合金导体及其制造方法、电缆及电车用供电线。铜合金导体(18)的制造方法是,在含0.001~0.1重量%(10~1000重量ppm)氧的铜母材(11)中,添加0.1~0.4重量%的Sn(12)、0.01~0.7重量%的与氧的亲和力大于Sn的至少1种附加元素(13)、并使Sn(12)与附加元素(13)合计比例处于0.3~0.8重量%,进行熔化(F1),形成铜合金熔融液(14),用该铜合金熔融液(14)进行连续铸造(F2),同时,迅速冷却铸造材料(15)的温度直到比铜合金熔融液的熔点低至少大于等于15℃的温度,在将该铸造材料(15)的温度调整到小于等于900℃的状态下,对铸造材料(15)进行最终轧制温度被调整到500℃~600℃的多段热轧加工(F3),形成轧制材料(16)。
申请公布号 CN101381823B 申请公布日期 2010.11.17
申请号 CN200810149262.9 申请日期 2005.01.17
申请人 日立电线株式会社 发明人 青山正义;市川贵朗;蛭田浩义;黑田洋光
分类号 C22C9/00(2006.01)I;C22C1/02(2006.01)I;C22F1/08(2006.01)I;H01B1/02(2006.01)I;B60M1/13(2006.01)I 主分类号 C22C9/00(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 钟晶
主权项 铜合金导体,其特征是,采用含有0.1~0.7重量%的In、0.001~0.1重量%的氧,剩余部分为Cu和不可避免的杂质的铜合金材料构成铜合金导体,构成结晶结构的结晶粒的平均粒径小于等于100μm,并且,所述的In氧化物80%以上,以平均粒径小于等于1μm的微小氧化物分散在结晶结构的基体中。
地址 日本东京都